NICT,「フォトニックデバイスラボ クリーンルーム」の外部利用を開始

NICTは,保有する研究開発施設等の一部を,研究開発を行なう外部機関(国,地方自治体,大学,企業等)が有償で利用できる制度「施設等供用制度」を運用している。申請書による簡易な手続で,NICTの研究開発施設等の利用が可能となるが,この制度の対象となる研究開発施設等に,「フォトニックデバイスラボ クリーンルーム」が追加された。

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施設で利用できる設備は,プラズマドライクリーニング装置,分光エリプソメータ,P-CVD装置,ECRエッチング装置,抵抗加熱蒸着装置,露光装置,段差測定器,電子ビーム蒸着装置1,電子ビーム蒸着装置2,シンター炉,スピンコータ,AR/HRコーティング装置,ドラフトチャンバーとなっている。

利用できるのは,原則として平日の午前8時30分から午後5時00分までの間で,使用時間に限らず1日分の使用負担金額(42,000円)が必要。施設を使用する前に,使用者全員がクリーンルーム利用に関する講習を受講する必要がある。

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