ニコンは，G450C（Global 450 Consortium）のマイルストーンに基づき，米国SUNY Polytechnic Institute’s Colleges of Nanoscale Science and Engineering（SUNY Poly CNSE）へ納入した450mmウェハ対応ArF液浸スキャナ「NSR-S650D」で，間もなくパターニング（実機での露光作業）を開始する（ニュースリリース）。

G450Cは，ニューヨーク州とニューヨーク州立大学および半導体メーカが参加する，450mmウェーハの産業界への移転を行なう官民の研究開発共同プログラム。

2013年7月，同社はResearch Foundation for the State University of New York（ニューヨーク州立大学の研究財団，SUNY研究財団）との間で，450mmウェハ対応ArF液浸スキャナ（NSR-S650D）の契約と受注をした。この契約スケジュールに基づき，2015年春に装置を出荷，パターニングを開始する。

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