ウシオのEUV採用の蘭機構,サービスを開始


ウシオ電機の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構(The Netherlands Organization for Applied Scientific Research:TNO)のEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」が2017年3月27日に正式オープンし,EUV関連企業や機関などを対象に,光学部品やマスク・ペリクル・センサー等の各種研究・評価サービスの受付を開始した(ニュースリリース)。

TNOのEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」は,サンプルをハンドリングから光照射,評価まで一貫して真空環境でリアルタイム(in-situ)に計測できる。また,ウシオの高輝度・高出力EUV光源により,6インチマスクまで対応した大面積露光評価が可能で,評価期間の短縮にも貢献している。

その他関連ニュース

  • ギガフォトン,EUV集光ミラー反射率低下量を更新 2017年09月12日
  • ギガフォトン,EUV光源の稼働率80%以上を確認 2017年07月12日
  • ギガフォトン,集光ミラーの寿命延長効果を実証 2017年03月01日
  • ウシオ電機,EUVでファーストライトを達成 2017年01月17日
  • 北大ら,フォトリソの感度を上げる添加剤を発見 2016年12月21日
  • ギガフォトンのEUV光源,発光効率5%で出力105Wを達成 2016年10月21日
  • NIFSら,多価イオンからの発光を計測 2016年07月27日