ウシオのEUV採用の蘭機構,サービスを開始


ウシオ電機の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構(The Netherlands Organization for Applied Scientific Research:TNO)のEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」が2017年3月27日に正式オープンし,EUV関連企業や機関などを対象に,光学部品やマスク・ペリクル・センサー等の各種研究・評価サービスの受付を開始した(ニュースリリース)。

TNOのEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」は,サンプルをハンドリングから光照射,評価まで一貫して真空環境でリアルタイム(in-situ)に計測できる。また,ウシオの高輝度・高出力EUV光源により,6インチマスクまで対応した大面積露光評価が可能で,評価期間の短縮にも貢献している。

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