【OPIE’18】ネオアーク,マスクレス露光装置を展示

ネオアークは,マスクレスで露光による微細加工が可能なマスクレス露光装置「PALET DDB-701」シリーズを,光技術総合展示会「OPIE’18」(4月25日~27日,パシフィコ横浜)に出展している。

この製品は安価ながら最小で3μmのパターニングが可能な露光装置。365nmのLED光源を使用し,一般的なレジスト材(AZ-P1350 やSU-8など)で微細な線状パターンを得ることができる。

不慣れな人でも簡単にパターニングできるよう,除振台や真空吸着ポンプなども内蔵したオールインワンタイプ。AC100VさえあればA3サイズの設置面積でマスクレス露光によるパターニングがすぐにでき,価格は500万円~とリーズナブルを実現している。

また,一般的な露光装置ではCADデータを用いるが,この装置は他にもJPGやPNGといった画像データ,パワーポイントのデータ(XPS)にも対応しているので,CADの知識が無くてもデータの作成ができる。

狭線幅モデルの最小露光線幅は3μm,ワンショット当たりの露光エリアは約1mm×0.6mmとなっている。露光領域は最大25mm×25mm。手動ステージの他,電動ステージモデルもラインナップする。

同社ではこの製品が,マイクロ流路などのバイオ用途や,磁気センサーパターンや電極パターンなどを作成するセンサー用途などに適しているとしている。

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