ウシオ,EUV光源事業をブランド化

ウシオ電機は,従来より研究・開発に取り組んできたEUV光源事業をさらに推し進めるため,開発から製造,運用,アフターサービスに至るEUV光源事業のブランド化を策定し,ブランド名「TinPhoenix(ティンフェニックス)」としてグローバル展開すると発表した(ニュースリリース)。

同社はこれまで,半導体製造プロセスに対し露光用UVランプ「SHシリーズ」(1977年~)や露光装置「UXシリーズ」(1988年~)などのブランドを展開してきた。

今年7月には,性能と信頼性を向上させてきたSnLDP(レーザーアシストプラズマ放電方式)EUV光源によるEUVリソグラフィ量産プロセス向けマスク検査用EUV光源が検査装置メーカーに初検収されている。

半導体業界において切望されているEUVによる量産プロセス確立に向け,多くの日本企業がインフラ的要素であるレジスト材料やフォトマスク,検査装置等の重要な要素を担っている中,同社も高精度マスク検査用EUV光源技術を継続的に進展させたいとしている。

なお,新ブランド「TinPhoenix」の技術・製品については,9月15日~19日に米カリフォルニア州モントレーで開催されるSPIE(国際光工学会)主催の「PHOTOMASK TECHNOLOGY + EUV LITHOGRAPHY」のジョイントカンファレンスにて,ポスターセッションを行なうとしている(ポスタータイトル「LDP EUV Light Source for Mask Inspection」)。

その他関連ニュース

  • ギガフォトン,新型ArFドライ光源を出荷 2019年09月19日
  • eBeam,EUVマスク検査の実現性を高評価 2019年09月17日
  • EV Group,新マスクレス露光技術を発表 2019年08月22日
  • ウシオのEUV光源,量産プロセス向けに初検収 2019年07月17日
  • 三井化学,ASMLとEUVパーツでライセンス契約 2019年06月04日
  • ウシオ,CNF透明シート上へ微細パターニングに成功 2019年05月21日
  • ギガフォトン鈴木氏ら,SPIEフェローに選出 2019年02月13日
  • 量研ら,世界最短波長の「超蛍光」を観測 2019年01月07日