ギガフォトン,新型ArFドライ光源を出荷

2019年9月17日ギガフォトンは,新型リソグラフィ用光源,ArFドライ「GT45A」を8月に出荷したことを発表した(ニュースリリース)。

最先端半導体製造プロセスでは,テクノロジー・ノード10/7nmという微細なプロセスが主流となり,今後もEUV光源の導入による7nm以下のさらなる微細化が注目されている。

その一方で,IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり,新規投資による生産能力の拡大と,既存工場のアップグレードで対応する事が期待されていることから,ドライ露光装置のさらなる改善による,露光装置における高生産性と高い稼働率(Availability)が不可欠となっている。

この製品は,すでに生産現場で導入実績のある,以下のArF液侵用光源技術を適用させることで,ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えるとしている。

・主要モジュールの寿命を従来品比で最大50%向上させ,光源のさらなる高稼働と装置稼動率を向上。
・最大で90Wまで高出力化することで,さらなる生産性向上が可能。
・4kHz~6kHzの繰り返し周波数が対応可能となり,露光機の要求に幅広く対応し,露光光学性能の向上に貢献。

その他関連ニュース

  • 電通大,磁場で量子化した固体電子エネルギーを決定 2019年10月11日
  • 青学ら,レーザーでトポロジカル相転移を実現 2019年10月08日
  • KDDIら,映像とセンサー内蔵ボールで選手育成 2019年10月08日
  • 2022年シリコンウエハ出荷面積,過去最高に 2019年10月01日
  • 阪大,安価な原料から重水素を選択的に製造 2019年09月27日
  • 東北大,電位差界面を使わず光起電力を発生 2019年09月20日
  • NTTコムウェアら,赤外線センサーとIoTで混雑予測 2019年09月18日
  • eBeam,EUVマスク検査の実現性を高評価 2019年09月17日