ギガフォトン,露光用ArF/KrFレーザーを発表

ギガフォトンは,2020年,新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源,ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を,新製品としてラインナップすると発表した(ニュースリリース)。

近年のIoTの普及やAIの実用化による半導体用途拡大に伴い,半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められている。

特に2020年は5G(第5世代移動通信)の一般向けサービスが開始され,サブ10nmノードの小型・高速・低消費電力のロジックICや,爆発的に増加するデータを保存する大容量メモリチップが必要となる。

新型ArF液浸用レーザー「GT66A」は,新開発の光学モジュールを搭載することで空間的なコヒーレンスを低減し,露光面でのビーム均一性を改善することに成功した。

また新型KrF用レーザー「G60K」は,約15年ぶりにフルモデルチェンジをし,新型電源ユニットを導入することで,従来比1.5倍の出力を可能にした。

同社は今後も,新技術を搭載した新製品ラインナップで,次世代の産業界の発展に貢献していくとしている。

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