ギガフォトン,新製品のKrFエキシマレーザー出荷

ギガフォトンは,半導体製造リソグラフィ用光源の技術を応用したGIGANEXシリーズの新製品,KrFレーザー「G300K」を3月に出荷した(ニュースリリース)。

この波長248nmのKrFエキシマレーザーは,同社のリソグラフィ用光源用KrFレーザーの技術をベースに,微細アブレーション等の「加工の最適化」をコンセプトとして,高安定性,99%以上の高稼働率,高出力を維持しながら,低価格を実現したモデル。

複数のチップで構成された次世代の半導体パッケージでは,外形寸法を小さくするとともに,動作周波数や帯域幅などを高く維持すること,電力効率を高めること,製造コストを低く維持することなどが求められている。

近年これらの要求を叶えるパッケージング技術の微細化が着目されており,そのためには層間を接続するビア穴の微細化が必須となっている。

この加工を高速かつ安価に行なうことができるとして,有機絶縁膜の微細アブレーションビア加工が注目されているが,その光源として,この製品は微細化に有利な短波長および高スループット実現と高出力を両立し,低コスト化をサポートするとしている。

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