真空紫外光による光加工技術の新展開

1. はじめに

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MEMSや半導体集積回路など,最先端デバイスの製造プロセスでは,フォトリソグラフィーやレーザーアブレーションに代表される,様々な光加工プロセスが中心的な役割を担ってきた。これらの加工法における最小加工サイズは光の回折限界の制約を受けるため,光源の短波長化がデバイスの小型化や集積化,すなわち高性能化のキーとなることから,光源開発が大きな技術課題の1つとなってきた。

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