エドモンド,極端紫外(EUV)用平面ミラーを発売

エドモンド・オプティクス・ジャパンは,「極端紫外(EUV)用平面ミラー」の発売を開始した(ニュースリリース)。

このミラーは,精密研磨された多層膜ミラーで,設計波長と入射角(AOI)で反射率が最大となるようデザインされている。EUV放射のビームステアリングや高調波分離用に最適という。

同ミラーは,入射角5°と45°用をラインナップし,EUV放射においてもっとも高い反射率の波長である13.5nmでほぼ理想的な反射率になる。RoHS指令に準拠し,スーパーポリッシュされた単結晶シリコン基板にコーティングが蒸着されているため,熱的安定性に優れている。

また,同ミラーは,3ÅRMS未満の面粗さをもち,入射光の散乱を大幅に低減する。多層膜の金属/半導体コーティングには,シリコン(Si)が上層のモリブデン(Mo)/Si多層膜も含まれる。平面度は632.8nmの波長でλ/10,板厚は6.35mm。入射角45°のミラーはs偏光のビームステアリングに最適。また,入射角5°のミラーは非偏光との使用に適している。

極端紫外(EUV)用平面ミラーは,コヒーレント回折イメージング(CDI)や材料科学といった新しいアプリケーションで使用されている。CDIは,10nmに近い分解能を達成可能な非接触の撮像技術で,非常に小さなナノ構造の分析に使われている。このミラーは,高調波発生(HHG)ビームの高調波セレクターとしても機能するという。

その他関連ニュース

  • 理研ら,軟X線FELを高効率でナノ領域に集光 2019年10月03日
  • 理研ら,超精密中性子集束金属ミラーを開発 2019年09月20日
  • eBeam,EUVマスク検査の実現性を高評価 2019年09月17日
  • ウシオ,EUV光源事業をブランド化 2019年09月10日
  • 東工大,究極の対物レンズの設計に成功 2019年07月17日
  • ウシオのEUV光源,量産プロセス向けに初検収 2019年07月17日
  • プロリンクス,ビーム整形一体型素子を発売 2019年07月16日
  • 東大,軟X線のナノメートル集光に成功 2019年06月19日