フォトテクニカ,Grace Laser製ピコ秒レーザーの取扱いを開始

フォトテクニカは,中国Grace Laser製の幅広い産業⽤途に使⽤できるピコ秒(ナノ秒)レーザーの取り扱いを開始した(ニュースリリース)。

今回取り扱うレーザーは,産業用小型ピコ秒UVレーザー,産業用高出力ピコ秒レーザー,高エネルギーピコ秒モードロックレーザー,高出力産業用ダイオード励起ナノ秒レーザーの4種。

ダイオード励起QCWピコ秒UVレーザー「GENIUSシリーズ」は,24/7の利用にも適した産業用グレードの小型ピコ秒UVレーザー。出力150mW/350mW,波長355nm,パルス繰返し80MHz,パルス幅<12ps。半導体ウェーハ検査,セルソーティング,マイクロステレオリソグラフィーに適する。

産業用高出力ピコ秒レーザー「BLAZERシリーズ」は,繰返し可変,ハイピークパワーの産業用グレードダイオード励起ピコ秒レーザー。出力10W~50W@1064nm,波長1064nm,,高調波 532nm,355nm,パルス繰返し100kHz~1MHz,パルス幅<15ps。ガラス,サファイアやOLEDの切断,穴加工や薄膜アブレーション,マイクロマシニングに適する。

高エネルギーピコ秒モードロックレーザー「BLAZER-Pシリーズ」は,ダイオード励起マスターオシレーターとランプ励起再生増幅器から構成される高エネルギーピコ秒レーザー。出力1~200mJ@1064nm,波長1064nm,高調波532nm,355nm,パルス繰返し1Hz~10kHz,パルス幅<30ps。非線形光学,マイクロマシニング,励起光源,衛星レーザー測距に適する。

高出力産業用ダイオード励起ナノ秒レーザー「GRAVER シリーズ」は,パルス繰返し可変,高繰返しでも短パルス動作を実現する。出力 :35W@1064nm,30W@532nm,波長1064nm,高調波 532nm, 355nm,パルス幅<10ns@40kHz,パルス繰返し30kHz~150kHz,ピークパワー>70kW,PCB切断。ファインセラミックス加工,太陽電池スクライビング,タッチパネル製造に適するとしている。

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